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- 半导体使用臭氧水清洗处理方法
半导体使用臭氧水清洗处理方法 ①减少化学药品的使用 a) 半导体用化学药品一般包括SC1(NH4OH/H2O2/DIW) 和SC2 (HCl/H2O2/DIW)，但是SC1 和SC2是相对较贵，并且需在60-100 ℃的高温条件下发生作用 . . .
- 硅片清洗的几种方法
硅片清洗的几种方法 20 世纪70 年代以前，清洗半导体材料所用的方法仍是较为传统的方法，主要为机械法和化学法。机械法采用在清洗剂中进行超声或刷子刷洗。前一种方法常引起硅片 . . .
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