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- 半导体使用臭氧水清洗处理方法
半导体使用臭氧水清洗处理方法 ①减少化学药品的使用 a) 半导体用化学药品一般包括SC1(NH4OH/H2O2/DIW) 和SC2 (HCl/H2O2/DIW)，但是SC1 和SC2是相对较贵，并且需在60-100 ℃的高温条件下发生作用 . . .
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