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2022-07-05    来源:http://www.o3test.com/   浏览量:    
在做氧化实验或者硅片清洗时,需要用到高浓高度臭氧发生器,高浓度臭氧发生器很多人理解为臭氧浓度在100%,其实大家所谓的高浓度臭氧发生器是臭氧浓度超过100mg/L,都称为高浓度,这2个单位是不一样的。在半导体行业,需要的臭氧浓度在200mg/L-400mg/L,下面介绍一款浓度在超过200mg/L的臭氧发生器。
 
加拿大 Absolute Ozone® ATLAS H30 高浓度臭氧发生器
产品特性*
臭氧产量:30g/h
标称工作压力:20 PSIG
臭氧浓度:高达 22%,
气体流速:0.1 – 4 slpm
原料气 - 氧气浓度为 90%-95%,以获得最佳性能。
 
环境操作条件
将臭氧发生器放置在通风良好且不受天气因素影响的区域
 
控制电源要求
220 V ~ ±3%,50/60 Hz,单相,3.5 A
最大功耗:350 W
 
物理连接
氧气入口:0.25 英寸世伟洛克
臭氧气体管道出口:0.25 英寸不锈钢世伟洛克
 
材料和结构
外壳:拉丝不锈钢/铝制
高精度机加工臭氧发生器电池在高达 150 PSIG 的压力下进行泄漏测试
O3/O2 气体管道:PTFE/304 不锈钢/黄铜
 
尺寸及重量
外壳尺寸:177.8 mm高 x 355.6 mm宽 x mm 深
发电机重量:12Kg
 
这一款是风冷,臭氧浓度高,相比同种产量和浓度的臭氧发生器来说,体积非常的小,适合实验室或者工业化使用。

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